Китайские исследователи представили новую технологию, которая позволяет выявить источник производственных дефектов в процессе изготовления микрочипов. Согласно исследованию, этот метод способен сократить количество ошибок на целых 99%, что знаменует собой значительный прорыв для отечественного производства полупроводников.
